Вышедшие номера
Характеристики статистического распределения тока, пропускаемого катодным пятном вакуумной дуги, в магнитных полях различной ориентации
Забелло К.К.1, Логачёв А.А.1, Чалый А.М.1, Школьник С.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: zabellok@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 15 апреля 2008 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2009 г.

Исследовано воздействие однородных магнитных полей различной ориентации на катодную привязку слаботочной вакуумной дуги с электродами из бескислородной меди и композиции CuCr30. Обнаружено, что при фиксированном токе количество катодных пятен в привязке дуги распределено по нормальному закону во всем исследованном диапазоне изменения амплитуды вектора индукции магнитного поля B и угла его наклона относительно нормали к поверхности катода alpha. Параметры распределения зависят от материала катода и магнитного поля. Зависимость от магнитного поля существенно проявляется лишь при превышении некоторого критического значения угла alpha*, которое составляет alpha*~ 30o (материал катода - бескислородная медь) и alpha*~45o (материал электродов - CuCr30). При alpha>alpha* появляется сильная зависимость параметров распределения от alpha, но зависимость от B остается слабой. Лишь при alpha->pi/2 амплитуда поля оказывает сильное влияние на параметры распределения. Полученные разультаты позволили определить статистические характеристики распределения среднего тока, пропускаемого катодным пятном, в магнитных полях различной ориентации. Обнаруженные закономерности позволили объяснить особенности структуры катодной привязки сильноточной вакуумной дуги, стабилизированной внешним аксиальным магнитным полем. PACS: 52.80.Vp
  1. Mesyats G.A. Cathode phenomena in a Vacuum Discharge: The Breakdown, the Spark and the Arc. Moscow: Nauka, 2000. 400 p
  2. Juttner B., Puchkarev V.F., Hantzsche E., Beilis I. Handbook of Vacuum Arc Science and Technology. Noyes Publications. Park Ridge. NJ. USA, 1995. P. 73--281
  3. Robson A.E. // Proc. IV Int. Conf. Phen. Ionised Gases. Uppsala. 1959. Vol. IIb. P. 346--349
  4. Gundlach H.C.W. // Proc. VII ISDEIV. Albuquerque. NM, 1978. P. A. 2. 1--11
  5. Juttner B. Cathode processes of electric discharge in vacuum. Thesis B. Academy of Sciences. Berlin, 1983
  6. Agarwal M.S., Holms R. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1984. Vol. 17. P. 757--767
  7. Watanabe K., Kaneko E., Yanabu S. // IEEE Trans. Plas. Sci. 1997. Vol. 25. N 4. P. 609--616
  8. Chaly A.M. // IEEE Trans. Plas. Sci. 2005. Vol. 33. N 5. P. 1497--1503
  9. Shkol'nik S.M., Afanas'ev V.P., Chaly A.M., Logatchev A.A., Malakhovsky S.I., Poluyanova I.N., Zabello K.K. // IEEE Trans. Plas. Sci. 2005. Vol. 33. N 5. P. 1511--1518
  10. Djakov B.E., Holmes R. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1971. Vol. 4. P. 504--508
  11. Перский Н.Е., Сысун В.И., Хромой Ю.Д. // ТВТ. 1989. Т. 24. N 6. С. 1060--1067
  12. Zabello K.K., Barinov Yu.A., Chaly A.M., Logatchev A.A., Shkol'nik S.M. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2005. Vol. 33. N 5. P. 1553--1559
  13. Chaly A.M., Logatchev A.A., Zabello K.K., Shkol'nik S.M. // IEEE Trans. Plas. Sci. 2007. Vol. 35. N 4. P. 946--952
  14. Juttner B. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2001. Vol. 34. N 17. P. R103--R123
  15. Chaly A.M., Logatchev A.A., Shkol'nik S.M. // IEEE Trans. Plas. Sci. 1997. Vol. 25. N 4. P. 564--570
  16. Shkol'nik S.M. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2003. Vol. 31. N 5. P. 832--846
  17. Кесаев И.Г. Катодные процессы электрической дуги. М.: Наука, 1968. 244 с
  18. Chaly A.M., Logatchev A.A., Zabello K.K., Shkol'nik S.M. // IEEE Trans. Plas. Sci. 2007. Vol. 35. N 4. P. 939--945
  19. Afanas'ev V.P., Chaly A.M., Logatchev A.A., Shkol'nik S.M., and Zabello K.K. // IEEE Trans. Plas. Sci. 2001. Vol. 29. N 5. P. 695--699

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.