Вышедшие номера
Формирование наноразмерных островков CrSi2 на Si(111)7x7 и покрывающих эпитаксиальных слоев кремния в гетероструктурах Si(111)/нанокристаллиты CrSi2/Si
Галкин Н.Г., Турчин Т.В., Горошко Д.Л., Доценко С.А., Плехов Е.Д., Чередниченко А.И.1
1Институт химии Дальневосточного отделения РАН, Владивосток, Россия
Email: ngalk@iacp.dvo.ru
Поступила в редакцию: 13 декабря 2006 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2007 г.

Методами дифракции медленных электронов и дифференциальной отражательной спектроскопии исследован процесс самоформирования наноразмерных островков дисилицида хрома (CrSi2) на Si(111). Показано, что полупроводниковая природа островков проявляется с начальных стадий осаждения хрома при температуре подложки 500oC, а переход с двумерного механизма роста на трехмерный наблюдается при толщине слоя хрома более 0.06 nm. Определены максимальная плотность островков и их размеры. Исследована молекулярно-лучевая эпитаксия кремния поверх наноразмерных островков CrSi2, определена оптимальная температура роста и получены атомарно-гладкие пленки кремния при толщине 50 nm. Методом ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии с ионным травлением на образцах со встроенными нанокристаллитами (НК) доказано формирование валентной полосы и, следовательно, кристаллической структуры CrSi2. Выращены эпитаксиальные мультислойные структуры со встроенными НК CrSi2. PACS: 81.07.-b, 81.70.-q