"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
О возможности применения киноформных элементов в зеркальных проекционных системах для ВУФ-литографии
Венедиктов В.Ю.1
1Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова, Санкт-Петербург, Россия
Email: venediktov@pochta.ru
Поступила в редакцию: 30 мая 2006 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2006 г.

Проанализированы возможности технологии отражательных дифракционных (голографических) оптических элементов для ВУФ-диапазона и их применения в проекционной фотолитографии. PACS: 85.85.+j
  • Денисюк Ю.Н., Соскин С.И. // Опт. и спектр. 1971. Т. 31. Вып. 6. С. 991
  • Беренберг В.А., Васильев М.В., Венедиктов В.Ю. и др. // Опт. журн. 1998. Т. 65. Вып. 12. С. 70
  • Naulleau P.P. Method of fabricating reflection-mode EUV diffraction elements. USA Patent 6,392,792, 2002
  • Sweatt W.C., Ray-Chaudhuri A.K. Diffractive element in extreme-UV lithography condenser. USA Patent 6, 118,577, 2000
  • Singh M., Braat J.J.M. Lithographic apparatus, device manufacturing methods, devices manufactured thereby, method of manufacturing a reflector, reflector manufactured thereby and phase shift mask. US Patent 6,777,140
  • Voznesensky N.B., Zhevlakov A.P. // Proc. SPIE. 2004. Vol. 5482. P. 136--144
  • Gan M.A., Zhdanov D.D., Novoselsky V. et al. // Opt. Eng. 1992. Vol. 31. P. 696
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.