Контроль загрязнения окружающей среды и процессы очистки плазменными методами*
Амору Дж.1, Морван Д.1, Кавадиас С.1, Адам Ф.1, Гоннорд М.Ф.1, Колибели К.1, Винсент А.1, Морел С.1, Дау Ф.1, Раусе П.1, Мартин Л.1
1Laboratoire de Genie des Procedes Plasma et Traitement de Surface, ENSCP Paris, France
Поступила в редакцию: 21 июля 2004 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2005 г.
Евросоюз вводит жесткие стандарты на загрязнения воздуха, воды и переработку отходов. Выполнение этих стандартов невозможно без разработки новых процессов очистки на основе плазменной или лазерной технологии. Одна из основных задач - контроль загрязняющих веществ с использованием метода ЛСВРВП (метод лазерной спектроскопии с временным разрешением и вынужденным пробоем), позволяющий выполнить оперативный анализ без отбора проб с высокой чувствительностью для всех элементов периодической таблицы. При плазменной переработке летучих зол и загрязненных почв масс-спектрометрический или оптический эмиссионный спектрометрический контроль летучих органических соединений (ЛОС) и хлорорганических соединений занимает несколько секунд. Также описано плазменное обезвреживание органических летучих соединений в потоке воздуха DBD-методом с целью уничтожения или улавливания молекул полициклических ароматических углеводородов.
- Amouroux J., Lancelin H., Coulibaly K. et al. // Proc. of the 1st World Congress on Microwave Processing, Orlando; Floride; Californie, 1997. Vol. 80. P. 565--575
- Dudragne V., Adam Ph., Amouroux J. et al. // Appl. Spectr. 1998. Vol. 52. N 10. P. 1321--1327
- Lancelin H., Dudragne L., Adam P. et al. // Amouroux J. International J. High Temperature Material Processes / Ed. P. Fauchais. New York: Begell House; Wallingford, 1999. Vol. 10. P. 121--124
- Morel S., Adam P., Amouroux J. // Progress in Plasma Processing of Materials / Ed. P. Fauchais. New York: Begell House; Wallingford, 2001. P. 11--22
- Genet F., Rousseau P., Cavadias S. et al. // Proc. of the ISPC 15. Orleans (France), 2001. Vol. 7. P. 3059--3065
- Rousseau P., Cavadias S., Amouroux J. // High Temperature Material Processes. 2003. Vol. 7. N 2. P. 391--405
- Rousseau P., Genet F., Cavadias S. et al. // Progress in Plasma Processing of Materials, New York: Begell House; Wallinford, 2001. P. 785, 792
- Cavadias S., Rousseau P., Genet F. et al. // Ibid. P. 785, 791
- Coulibaly K., Genet F., Morvan D. et al. // 5th European Conf. of Thermal Plasma Process. St. Petersburg, 1998
- Rutberg Ph.G., Safronov A.A., Bratsev A.N. et al. // Progress in Plasma Processing of Materials, New York; Begell House; Wallinford, 2001. P. 745--760
- Cerqueira N., Ghiloufi I., Barthelemy B. et al. // Ibid. 2001. P. 761--768
- Bernard S., El Ganaoui M., Fauchais P. et al. // Ibid. P. 769--776
- Goriachev V.L., Kulishhevich A.I., Ufimtsev A.A. et al. // Ibid. P. 827--832
- Goldfard, Shneerson G. // Ibid. 1999. P. 701--707
- Coulibaly K., Genet F., Morvan D. et al. // Ibid. P. 753--758
- Genet F., Coulibaly K., Cavadias S. et al. // Ibid. P. 837--845
- Rutberg Ph.G., Ufimtsev A.A., Bratsev A.N. et al. // Ibid. P. 821--827
- Vincent A., Daou F., Amouroux J. // High Temperature Material Processes. 2002. Vol. 6. N 2. P. 167--180
- Francke E., Robert S., Amouroux J. // High Temperature Processes, 2000. Vol. 4. N 1. P. 138--150
- Amouroux J., Lancelin H., Coulibaly K. et al. // Proc. of the 1st World Congress on Microwave Processing. Orlando; Californie, 1997. Vol. 80. P. 565--575
- Parissi L., Odic E., Dupre S. et al. // Progress in Plasma Processing of Materials. New York: Begell House, Wallinford, 2001. P. 777--784
- Francke E., Robert S., Amouroux J. // Ibid. 1999. P. 759--765
- Renou-Gonnord M.F., Coulibaly K., Genet F. // Ibid. 1999. P. 765--771
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук