Вышедшие номера
Влияние резонансной перезарядки ионов аргона на эффективную скорость распыления в магнетронном разряде
Бурмакинский И.Ю.1, Рогов А.В.1
1Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия
Email: alex-rogov@yandex.ru
Поступила в редакцию: 29 мая 2003 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2003 г.

Проведен сравнительный анализ скоростей распыления в магнетронной системе ионного распыления для различных материалов мишени. Приведены эффективные коэффициенты распыления, полученные при использовании аргона в качестве рабочего газа. Показано, что отличие коэффициента распыления от значений, полученных методом моноэнергетичных ионных пучков, обусловлено влиянием резонансной перезарядки иона аргона на собственном газе.
  1. Eckstein W., Garcia-Rosales C. et al. Sputtering Data. Max-Planck-institut fur plasmaphysik, 1993
  2. Арифов У.А. Взаимодействие атомных частиц с поверхностью металла. Ташкент, 1961
  3. Каминский М. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967
  4. Kelly P.J., Arnell R.D. // J. Vacuum. 2000. Vol. 56. P. 159--172
  5. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989
  6. Месси Г., Бархоп Е. Электронные и ионные столкновения. М.: ИЛ, 1958. 604 с. Electronic and ionic impact phenomena / Ed. H.S.W. Massey, Burhop. Oxford. Clarendon press, 1952
  7. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987
  8. Touzeau M., Prioul M. et. al. // Plasma Phys. Control. Fusion. 2000. Vol. 42. P. B323--B339
  9. Elakshar F.F., Hassouba M.A., Garamoon A.A. // Fizika (Zagreb). 2000. Vol. 9. N 4. P. 177--186
  10. Macak K., Macak P., Helmersson U. // Computer Physics Communication. 1999. Vol. 120. P. 238--354

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.