Вышедшие номера
Моделирование формирования плазмы в прикатодном слое разряда эффективных эксиламп
Ткачев А.Н.1, Яковленко С.И.1
1Институт общей физики РАН, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 22 апреля 2002 г.
Выставление онлайн: 20 января 2003 г.

На основе моделированияи имеющихся экспериментальных данных предложены аналитические аппроксимации величин, характеризующих процесс размножения электронов в прикатодной области. Получено критическое значение поля, при превышении которого наблюдается убегание электронов. На основе предложенных аппроксимаций рассмотрена задача о зависимости параметров плазмы (электронных и ионных плотностей и токов, напряженности электрического поля) от расстояния до поверхности катода. Предложены простые формулы, определяющие полный ток, ширину прикатодной области и падение потенциала как функцию напряженности поля на поверхности катода.