Описан подход к полному моделированию газодинамики в камере источника излучения на длине волны 11.2 nm на основе плазмы ксенона. Рассмотрена архитектура модели с учетом взаимодействия газа и плазмы, а также химических реакций многокомпонентной газовой смеси. Обозначены направления, требующие дополнительных исследований. Показана мотивация использования газодинамического моделирования в задачах оптимизации установки источника экстремального ультрафиолетового излучения. Ключевые слова: плазма ксенона, экстремально ультрафиолетовая фотолитография, литография на длине волны 11.2 nm, защита оптики.