Вышедшие номера
Кинетика формирования силицидных фаз в тонкопленочной системе Yb-Si(111)
Кузьмин М.В. 1, Мальков Д.А.1, Сорокина С.В. 1
1Ioffe Institute, Russian Academy of Sciences, St. Petersburg, Russia
Email: m.kuzmin@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 25 июля 2024 г.
В окончательной редакции: 27 ноября 2024 г.
Принята к печати: 5 декабря 2024 г.
Выставление онлайн: 24 марта 2025 г.

Исследованы процессы формирования и физико-химические свойства силицидов иттербия в пленочной системе Yb-Si(111). Показано, что переход от металлического иттербия к силицидным пленкам со стехиометрией Yb5Si3, YbSi и YbSi2-x происходит при достижении температуры 400, 470 и 600 K соответственно. Пленка YbSi2-x имеет упорядоченную структуру (1x1) и сохраняется на поверхности кремния в интервале 600-1000 K. Определена работа выхода и валентное состояние атомов иттербия в силицидных пленках. Установлена оптимальная температура формирования пленки дисилицида иттербия эпитаксиального качества на исследованной поверхности Si(111). Ключевые слова: поверхность, иттербий, силициды, электронная оже-спектроскопия, работа выхода.
  1. F.P. Netzer. J. Phys.: Condens. Matter., 7, 991 (1995)
  2. S. Zhu, J. Chen, M.-F. Li, S.J. Lee, J. Singh, C.X. Zhu, A. Du, C.H. Tung, A. Chin, D.L. Kwong. IEEE Electron Device Lett., 25 (8), 565 (2004). DOI: 10.1109/LED.2004.831582
  3. D. Connelly, C. Faulkner, P.A. Clifton, D.E. Grupp. Appl. Phys. Lett., 88, 012105 (2006). DOI: 10.1063/1.2159096
  4. K.-H. Shen, S.-H. Chen, W.-T. Liu, B.-H. Wu, L.-J. Chen. Mater. Design, 114, 220. DOI: 10.1016/j.matdes.2016.11.084
  5. J. Cho, H.S. Radhakrishnan, M.R. Payo, M. Debucquoy, A. van der Heide, I. Gordon, J. Szlufcik, J. Poortmans. ACS Appl. Energy Mater., 3 (4), 3826 (2020). DOI: 10.1021/acsaem.0c00256
  6. J.H.G. Owen, K. Miki, D.R. Bowler. J. Mater. Sci., 41, 4568 (2006). DOI: 10.1007/s10853-006-0246-x
  7. S. Appelfeller, S. Kuls, M. Dahne. Surf. Sci., 641, 180 (2015). DOI: 10.1016/j.susc.2015.07.001
  8. G. Rossi. Surf. Sci. Rep., 7 (1-2), 1 (1987)
  9. K.S. Chi, W.C. Tsai, L.J. Chen. J. Appl. Phys., 93, 153 (2003). DOI: 10.1063/1.1525064
  10. Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ, 39 (2), 256 (1997)
  11. М.В. Кузьмин, М.А. Митцев. ФТТ, 65 (6), 1082 (2023). DOI: 10.21883/FTT.2023.06.55670.48
  12. Д. Вудраф, Т. Делчар. Современные методы исследования поверхности (Мир, М., 1989)
  13. M. Balkanski (ed.). Optical properties of semiconductors. V. 2. Handbook on semiconductors (Elsevier, Amsterdam, 1994)
  14. М.В. Кузьмин, М.А. Митцев. ЖТФ, 90 (8), 1359 (2020). DOI: 10.21883/JTF.2020.08.49548.81-20
  15. J.C. Riviere, F.P. Netzer, G. Rosina, G. Strasser, J.A.D. Matthew. J. Electron Spectr. Rel. Phen., 36, 331 (1985)
  16. A. Palenzona, P. Manfrinetti, S. Brutti, G. Balducci. J. Alloys Compounds, 348, 100 (2003)
  17. Е.М. Савицкий, В.Ф. Терехова. Металловедение редкоземельных металлов (Наука, М., 1975)
  18. М.В. Кузьмин, М.А. Митцев. ФТТ, 53 (3), 569 (2011)
  19. Д.И. Хомский. УФН, 129 (3), 443 (1979)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.