Исследован магнетрон с расположенным перед ним кольцевым магнитом NdFeB, изменяющим конфигурацию суммарного магнитного поля. Показано, что в результате образуется магнитная ловушка, в которой электроны удерживаются в области разряда, вследствие чего эффективность ионизации распыленных атомов возрастает, что, в свою очередь, приводит к увеличению ионного тока на порядок. Изучена зависимость формы плазменной границы и распределения плотности ионного тока в поперечном сечении от аксиального смещения внешнего магнита относительно магнетрона. На расстоянии 60-90 mm от магнетрона получена плотность ионного тока в диапазоне 0.1-0.55 mA/cm² при напряжении разряда 320-350 V и токе 150-300 mA. Установлено, что устойчивый разряд горит в среде аргона, кислорода и смеси аргона с азотом при давлении 0.3-0.5 Pa. Ключевые слова: магнетрон, магнитное поле, покрытия, магнетронное распыление плотность тока.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.