Вышедшие номера
Влияние способа подачи газов в камеру на процессы реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени
Доан Х.Т.1, Голосов Д.А.1, Джанг Дж.2, Кананович Н.А., Завадский С.М.1, Мельников С.Н.1
1Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск, Беларусь
2Ведущая лаборатория провинции Шэньси в области технологии тонких пленок и оптических исследований, Школа оптоэлектронного инжиниринга, Сианьский политехнический университет, Сиань, Китай
Поступила в редакцию: 30 ноября 2022 г.
В окончательной редакции: 16 января 2023 г.
Принята к печати: 22 января 2023 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2023 г.

Представлены результаты исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени в Ar/O2 смеси газов при различных способах подачи газов в камеру. Установлено, что независимо от способа подачи газов при изменении концентрации кислорода в Ar/O2 смеси газов происходит изменение соотношения содержания Al и Ti в нанесенных пленках Ti1-xAlxOy. На основе исследований диэлектрических характеристик нанесенных пленок Ti1-xAlxOy установлено, что при раздельной газоподаче (Ar подается в область мишени, O2 подается в область подложки) в отличие от совместной газоподачи (смесь Ar/O2 рабочих газов подается в область мишени) возможно нанесение диэлектрических пленок в переходном режиме при сравнительно высоких скоростях распыления. При этом подача кислорода в область подложки позволяет увеличить содержание кислорода в пленках до 60-64 at.%. Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, составная мишень, тонкие пленки, оксид титана-алюминия, элементный состав, диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь.
  1. M. Coll, J. Fontcuberta, M. Althammer, M. Bibes, H. Boschker, A. Calleja, G. Cheng, M. Cuoco, R. Dittmann, B. Dkhil, I.E. Baggari, M. Fanciulli, I. Fina, E. Fortunato, C. Frontera, S. Fujita, V. Garcia, S. Goennenwein, C.-G. Granqvist, J. Grollier, R. Gross, A. Hagfeldt, G. Herranz, K. Hono, E. Houwman, M. Huijben, A. Kalaboukhov, D. Keeble, G. Koster, L. Kourkoutis, J. Levy, M. Lira-Cantu, J. MacManus-Driscoll, J. Mannhart, R. Martins, S. Menzel, T. Mikolajick, M. Napari, M. Nguyen, G. Niklasson, C. Paillard, S. Panigrahi, G. Rijnders, F. Sanchez, P. Sanchis, S. Sanna, D. Schlom, U. Schroeder, K. Shen, A. Siemon, M. Spreitzer, H. Sukegawa, R. Tamayo, J. van den Brink, N. Pryds, F.M. Granozio. Appl. Surf. Sci., 482, 1 (2019). DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.03.312
  2. K.V. Madhuri. Ad. Res. Engineer. Sc. "ARES" J., 2 (3), 2 (2014)
  3. J. Robertson, R.M. Wallace. Mater. Sci. Engineering R., 88, 1 (2015). DOI: 10.1016/j.mser.2014.11.001
  4. B. Wang, W. Huang, L. Chi, M. Al-Hashimi, T.J. Marks, A. Facchetti. Chem. Rev., 118, 5690 (2018)
  5. E. Fortunato, P. Barquinha, R. Martins. Adv. Mater., 24, 2945 (2012)
  6. S.R. Thomas, P. Pattanasattayavong, T.D. Anthopoulos. Chem. Soc. Rev., 42, 6910 (2013)
  7. J. Nakano, H. Miyazaki, T. Kimura, T. Goto, S. Zhang. J. Ceram. Soc. Jpn., 112 (5), S908 (2004)
  8. S. Kadlec, J. Musil, H. Вyskocil. J. Phys. D: Appl. Phys., 19 (9), L187 (1986). DOI: 10.1088/0022-3727/19/9/004
  9. Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман. Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением (Техносфера, М., 2014)
  10. W.D. Sproul, D.J. Christie, D.C. Carter. Thin Solid Films, 491 (1-2), 1 (2005). DOI: 10.1016/j.tsf.2005.05.022
  11. А.П. Достанко, Д.А. Голосов, С.М. Завадский, С.Н. Мельников, Д.Э. Окоджи, Д.Д. Котинго, Г.М. Рубан. ПФМТ, 27 (2), 12 (2016)
  12. Д.А. Голосов, С.Н. Мельников, А.П. Достанко. Электронная обработка материалов, 48 (1), 63 (2012). [D.A. Golosov, S.N. Melnikov, A.P. Dostanko. Surf. Engineer. Appl. Electrochem., 48 (1), 52 (2012). DOI: 10.3103/S1068375512010073]
  13. D.R. Lide. Handbook of Сhemistry and Рhysics (London; Teylor \& Francis, 2006)
  14. C.C. Chen. Atlas J. Mater. Sci., 1 (1), 1 (2014). DOI: 10.5147/ajms.v1i1.116
  15. J.A. Dean, N.A. Lange. Lange's Handbook of Chemistry (McGraw-Hill Education, NY., 2005)
  16. Х.Т. Доан, Д.А. Голосов, Дж. Джанг, С.Н. Мельников, С.М. Завадский. Электронная обработка материалов, 59 (1) (2023). [H.T. Doan, D.A. Golosov, J. Zhang, S.N. Melnikov, S.M. Zavadski. Surf. Engineer. Appl. Electrochem., 59 (1) (2023).]

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.