Вышедшие номера
Распыление поверхности кремния при низкоэнергетической высокодозовой имплантации ионами серебра
Переводная версия: 10.1134/S1063784220070269
Российский научный фонд, № 17-12-01176
Воробьев В.В.1,2, Рогов А.М.1,2, Нуждин В.И.2, Валеев В.Ф.2, Степанов А.Л.2
1Междисциплинарный центр "Аналитическая микроскопия" Казанского федерального университета, Казань, Россия
2Казанский физико-технический институт им. Е.К. Завойского, ФИЦ Казанский научный центр РАН, Казань, Россия
Email: Slavik.Ksu@mail.ru
Поступила в редакцию: 7 апреля 2019 г.
В окончательной редакции: 3 февраля 2020 г.
Принята к печати: 10 февраля 2020 г.
Выставление онлайн: 7 апреля 2020 г.

Приведены результаты по впервые проведенным на практике наблюдениям распыления поверхности Si при имплантации ионами Ag+ с энергией 30 keV в зависимости от дозы облучения D в интервале от 2.5· 1016 до 1.5· 1017 ion/cm2 при фиксированном значении плотности тока в ионном пучке J = 8 μA/cm2, а также при вариации J = 2, 5, 8, 15 и 20 μA/cm2 для постоянной величины D = 1.5· 1017 ion/cm2. В первом случае наблюдается монотонное увеличение толщины распыляемого слоя пористого Si (PSi) до 50 nm при максимальной D, при этом значение эффективного коэффициента распыления имплантированного слоя Ag : PSi составляет 1.6. Также установлено возрастание толщины распыленного слоя при повышении J. Ключевые слова: распыление кремния, низкоэнергетическая ионная имплантация, ионы серебра.