Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2024
- 1 2 3 4
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения тонких пленок на стенки цилиндрических отверстий с высоким аспектным отношением

DOI: 10.21883/JTF.2018.08.46319.2625

Переводная версия: 10.1134/S1063784218080054

Фадеев А.В.

¹, Руденко К.В.

¹Физико-технологический институт Российской академии наук, Москва, Россия Institute of Physics and Technology, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

Institute of Physics and Technology, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

Email: AlexVFadeev@gmail.com

Поступила в редакцию: 28 декабря 2017 г.

Выставление онлайн: 20 июля 2018 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

Предложена теоретическая модель, предсказывающая профиль толщины пленки, выращиваемой на стенках высокоаспектного цилиндрического отверстия методом атомно-слоевого осаждения. Модель дает возможность рассчитать критическое время подачи прекурсора, необходимое для конформного покрытия стенок отверстия. Получена аналитическая формула, позволяющая оценить минимальное время подачи прекурсора в зависимости от параметров технологического процесса.

Gardner D.S., Holzwarth C.W., Liu Y. // Electron Devices Meeting (IEDM). 2014. IEEE International. doi 10.1109/IEDM.2014.7047009
Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials / Ed. by N. Pinna, M. Knez. Wiley-VCH Verlag \& Co. KGaA, 2012. 435 p
Gordon R.G., Hausmann D., Kim E., Shepard J. // Chem. Jap. Depos. 2003. Vol. 9. N 2. P. 73--78
Rose M., Bartha J.W. // Appl. Surf. Sci. 2009. Vol. 256. P. 6620--6623
Rose M., Bartha J.W., Endler I. // Appl. Surf. Sci. 2010. Vol. 255. P. 3778--3782
Knoops H.C.M., Langereis E., van de Sanden M.C.M., Kessels M.M. // J. Electrochem. Soc. 2010. Vol. 57. N 12. P. G241--G249
Yanguas-Gil A., Elam J.W. // ECS Transactions. 2011. Vol. 41. N 2. P. 169--174
Yanguas-Gil A., Elam J.W. // Chem. Vap. Depos. 2012. Vol. 18. P. 46--52
Wang W.B., Abelson J.R. // J. Appl. Phys. 2014. Vol. 116. P. 116--124
Фадеев А.В., Мяконьких А.В., Руденко К.В. // ЖТФ. 2018. Вып. 88. N 2. С. 243--250
Розанов Л.М. Вакуумная техника. М.: Высшая школа, 1990. 320 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель