Вышедшие номера
Исследование влияния соотношения потоков V/III на процессы субмонослойной эпитаксии GaAs/GaAs(001) методом Монте-Карло
Российский научный фонд, 15-19-10006
Агеев О.А. 1, Солодовник М.С. 1, Балакирев С.В. 1, Михайлин И.А. 1
1Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, Таганрог, Россия
Email: ageev@sfedu.ru, solodovnikms@sfedu.ru, s.v.balak@gmail.com, ilmikhaylin@gmail.com
Поступила в редакцию: 17 августа 2015 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2016 г.

Методом Монте-Карло проведено моделирование влияния соотношения потоков V/III на субмонослойный рост GaAs на поверхности GaAs(001) при различных технологических параметрах метода молекулярно-лучевой эпитаксии. Рассчитаны зависимости поверхностной плотности островков от соотношения потоков V/III. Значение насыщения поверхностной плотности при температуре 580oC составило 2·1012 cm-2, что согласуется с экспериментальными данными. Наибольшее влияние соотношения потоков V/III на плотность островков обнаружено при пониженной температуре (550oC) и повышенной скорости роста (1 монослой в секунду), когда снижена десорбция мышьяка. Проведена оценка доли атомов мышьяка в растущей пленке при различных технологических режимах. Показано, что с увеличением степени заполнения поверхности влияние соотношения потоков V/III на долю атомов мышьяка ослабевает.