Вышедшие номера
СТМ-наблюдение сверхтонких эпитаксиальных пленок CoSi2(111), выращенных при высокой температуре
Алексеев А.А., Олянич Д.А., Утас Т.В., Котляр В.Г., Зотов А.В., Саранин А.А.1,2
1Институт автоматики и процессов управления РАН, Владивосток, Россия
2Школа естественных наук Дальневосточного федерального университета, Владивосток, Россия
Поступила в редакцию: 22 декабря 2014 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2015 г.

С помощью сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) изучены основные закономерности роста сверхтонких эпитаксиальных пленок CoSi2(111) с покрытием Co до 4 ML, полученных при последовательном осаждении атомов Co и Si в стехиометрическом соотношении на поверхность Co-Si(111) при комнатной температуре и последующем отжиге при 600-700oC. При покрытии атомов Co ниже ~ 2.7 ML наблюдается рост плоских островков CoSi2 высотой до ~3 nm с поверхностной структурой 2x2 или 1x1. Показано, что формирование сплошных эпитаксиальных пленок CoSi2, в состав которых входит 3-4 тройных слоя Si-Co-Si, происходит при условии точного контроля осаждения. Пленки CoSi2 могут содержать включения локальных участков с реконструкцией (2x1)Si. При температуре выше 700oC происходит рост многоуровневой пленки CoSi2 с точечными проколами (pinholes) вследствие вертикального роста из-за разницы свободных энергий поверхностей CoSi2(111) и Si(111). Согласно теоретическим расчетам, наиболее выгодными структурами интерфейса CoSi2(111)2x2 являются структуры A- и B-типа с координационным числом атомов Co, равным 8.