Вышедшие номера
Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении
Шумилов А.С.1, Амиров И.И.1
1Ярославский филиал Физико-технологического института РАН, Ярославль, Россия
Email: AndShumilov@gmail.com
Поступила в редакцию: 29 ноября 2013 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2015 г.

Представлен новый двумерный метод моделирования морфологии поверхности материалов в процессах низкоэнергетического ионного распыления с учетом процесса переосаждения распыляемого материала. Проведено моделирование изменения профиля микроканавок в кремнии при распылении их ионами аргона низкой энергии плотной плазмы ВЧ индукционного разряда. Результаты численного моделирования находятся в хорошем согласии с экспериментом.