"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Факторы, определяющие эффективность магнетронного распыления. Критерии оптимизации
Рогов А.В., Капустин Ю.В., Мартыненко Ю.В.1,2
1Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия
2Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ, Москва, Россия
Email: alex-rogov@yandex.ru
Поступила в редакцию: 27 июня 2014 г.
Выставление онлайн: 21 января 2015 г.

Приведены результаты экспериментальных исследований зависимости коэффициента энергетической эффективности распыления Kw в планарном магнетронном распылительном устройстве на постоянном токе от мощности разряда, давления рабочего газа, величины магнитного поля, глубины эрозии катода, конструкции системы напуска газа и анода. Предложено использовать данный параметр для сравнения степени совершенства конструкции магнетронов вне зависимости от их размеров и конструктивных особенностей. Приведены результаты измерения Kw при распылении Al, Ti, Cr, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Ag, In, Sn, Ta, W, Pt и Au. Разработан критерий оптимизации магнитной системы магнетрона, обеспечивающий минимальное рабочее давление и максимальную скорость распыления катода. Проведен теоретический анализ полученных данных.
  • Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. 328 с
  • www.angstromsciences.com
  • www.inficon.com
  • Каштанов П.В., Смирнов Б.М., Хиппер Р. // УФН. 2007. Т. 177. Вып. 5. С. 473--510
  • Jin-Hyo Booa, Min Jae Jungb, Heon Kyu Parkb, Kyung Hoon Namb, Jeon G. Han // Surf. Coat. Tech. 2004. Vol. 188--189. P. 721--727
  • Posadowski W.M. // Thin Solid Films. 2001. Vol. 392. P. 201--207;
  • Li Gou, Changsong Qi, Junguo Ran, Changqiong Zheng // Thin Solid Films. 1999. Vol. 345. P. 42--44
  • Goree J., Sheridan T.E. // Appl. Phis. Lett. 1991. Vol. 59. N 9. P. 1052--1054
  • Мартыненко Ю.В., Рогов А.В., Шульга В.И. // ЖТФ. 2012. Т. 82. Вып. 4. С. 13--18;
  • Czekaj D., Hollman E.K., Volpias V.A., Zaytsev A.G., Chernakova A., Goranchev B. // Bulg. J. Phys. 1991. Vol. 18. P. 63--67;
  • Барченко В.Т., Быстров Ю.А., Колгин Е.А. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве. СПб: Энергоатомиздат, 2001. 332 с
  • Eckstein W., Garcia-Rosales C., Roth J., Ottenberger W., Sputtering Data // Max-Planck-Institut fur Plasmaphysik, IPP 9/82, February, 1993
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.