Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2024
- 1 2 3 4
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Факторы, определяющие эффективность магнетронного распыления. Критерии оптимизации

Рогов А.В., Капустин Ю.В., Мартыненко Ю.В.^1,2

¹Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия National Research Center “Kurchatov Institute”, Moscow, Russia

²Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", Москва, Россия National Research Nuclear University “MEPhI”, Moscow, Russia

Email: alex-rogov@yandex.ru

Поступила в редакцию: 27 июня 2014 г.

Выставление онлайн: 20 января 2015 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

Приведены результаты экспериментальных исследований зависимости коэффициента энергетической эффективности распыления K_w в планарном магнетронном распылительном устройстве на постоянном токе от мощности разряда, давления рабочего газа, величины магнитного поля, глубины эрозии катода, конструкции системы напуска газа и анода. Предложено использовать данный параметр для сравнения степени совершенства конструкции магнетронов вне зависимости от их размеров и конструктивных особенностей. Приведены результаты измерения K_w при распылении Al, Ti, Cr, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Ag, In, Sn, Ta, W, Pt и Au. Разработан критерий оптимизации магнитной системы магнетрона, обеспечивающий минимальное рабочее давление и максимальную скорость распыления катода. Проведен теоретический анализ полученных данных.

Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. 328 с
www.angstromsciences.com
www.inficon.com
Каштанов П.В., Смирнов Б.М., Хиппер Р. // УФН. 2007. Т. 177. Вып. 5. С. 473--510
Jin-Hyo Booa, Min Jae Jungb, Heon Kyu Parkb, Kyung Hoon Namb, Jeon G. Han // Surf. Coat. Tech. 2004. Vol. 188--189. P. 721--727
Posadowski W.M. // Thin Solid Films. 2001. Vol. 392. P. 201--207;
Li Gou, Changsong Qi, Junguo Ran, Changqiong Zheng // Thin Solid Films. 1999. Vol. 345. P. 42--44
Goree J., Sheridan T.E. // Appl. Phis. Lett. 1991. Vol. 59. N 9. P. 1052--1054
Мартыненко Ю.В., Рогов А.В., Шульга В.И. // ЖТФ. 2012. Т. 82. Вып. 4. С. 13--18;
Czekaj D., Hollman E.K., Volpias V.A., Zaytsev A.G., Chernakova A., Goranchev B. // Bulg. J. Phys. 1991. Vol. 18. P. 63--67;
Барченко В.Т., Быстров Ю.А., Колгин Е.А. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве. СПб: Энергоатомиздат, 2001. 332 с
Eckstein W., Garcia-Rosales C., Roth J., Ottenberger W., Sputtering Data // Max-Planck-Institut fur Plasmaphysik, IPP 9/82, February, 1993

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель