Вышедшие номера
Исследование монокристаллов арсенида галлия различной кристаллографической ориентации, имплантированных ионами кремния и подвергнутых импульсному фотонному отжигу
Васильковский С.В.1, Духновский М.П.2, Конакова Р.В.1, Тхорик Ю.А.
1Институт физики полупроводников НАН Украины, Киев, Украина
2Государственное научно-производственное объединение "Исток", Фрязино, Московская область, Россия
Поступила в редакцию: 27 января 1998 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1999 г.

Приведены результаты экспериментальных исследований монокристаллов арсенида галлия ориентации (100), (311)A, (211)A, (111)A и (221)A, легированных ионами кремния на установке "Иолла-3М" при комнатной температуре (энергия ионов 75 keV, плотность ионного пучка 1 muA/cm2, доза имплантации 1.2·103 cm-2) и отожженных на установке "Импульс-5" при температуре 950oC. Методами комбинационного рассеяния света и низкотемпературной фотолюминесценции установлено, что наибольшая электрическая активность имплантированного кремния при одинаковых условиях имплантации и отжига реализуется для (100) и (311)A ориентации арсенида галлия. При этом создаются слои n-типа проводимости.