"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Термостимулированное течение легкоплавких стекол при планаризации рельефа поверхности микроэлектронных структур
Жвавый С.П.1, Ивлев Г.Д.1, Пилипенко В.А.1, Пономарь В.Н.1
1Институт электроники НАН Белоруссии, Минск, Белоруссия
Поступила в редакцию: 24 ноября 1997 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1998 г.

На основе модели, предполагающей ньютоновское вязкое течение под действием сил поверхностного натяжения, решена задача течения фосфоросиликатного и борофосфоросиликатного стекла в термостимулированном процессе планаризации рельефа микроэлектронных структур. Получены выражения для угла оплавления в зависимости от температурно-временных режимов термообработки и физических параметров стекол.
  • Becker F.S., Pawlik D., Schafer H., Staudigl G. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1986. Vol. 4. N 3. P. 732--744
  • Mercier J.S. // Solid State Technol. 1987. Vol. 30. N 7. P. 85--90.
  • Васильев В.Ю., Духанова Т.Г. // Электронная техника. Сер. 3. Микроэлектроника. 1991. N 4. С. 38--41
  • White L.K., Miszkowski N.A., Kurylo W.A., Shaw J.M. // J. Electrochem. Soc. 1992. Vol. 139. N 3. P. 822--826
  • Thallikar G., Liao H., Cale T.S. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1995. V. 13. N 4. P. 1875--1878
  • Де Жен П.Ж. // УФН. 1987. Т. 151. N 4. С 619--681
  • Мазурин О.В., Стрельцина М.В., Швайко-Швайковская Т.П. Свойства стекол и стеклообразующих расплавов. Справочник. Т. 1. Л.: Наука, 1973. 444 с
  • Борисенко В.Е., Корнилов С.Н., Лабунов В.А., Кучеренко Ю.В. // Зарубежная электронная техника. 1985. Т. 6. С. 45--65
  • Немилов С.В. // Физ. и хим. стекла. 1978. Т. 4. N 2. С. 129--148.
  • Немилов С.В., Гуткина Н.Г. // Физ. и хим. стекла. 1980. Т. 6. N 5. С. 535--542
  • Мюллер Р.Л. // ЖПХ. Т. 28. N 10. С. 1077--1087
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.