На основе усредненного уравнения для профиля ионной концентрации анализируются процессы в приэлектродных слоях емкостного несамостоятельного ВЧ разряда при средних давлениях. Получены аналитические выражения для распределения концентрации вблизи границы плазмы. Результаты сравниваются с численными расчетами.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.