Проведено численное моделирование элементарных процессов в водородной плазме источника отрицательных ионов с отражательным разрядом в импульсно-периодическом режиме работы. Показано, что при определенном соотношении между частотой следования и длительностью токовых импульсов средняя концентрация отрицательных ионов может быть выше плотности H- в стационарном режиме при одинаковой вкладываемой мощности.
Wadehra J.M., Bardsley J.N. Phys. Rev. Lett. 1985. Vol. 18. P. 2433
Allen M., Wonng S.F. Phys. Rev. Lett. 1978. Vol. 41. P. 1795
Berlemont P., Skinner D.A., Bacal M. Chem. Phys. Lett. 1991. Vol. 183. P. 397
Gorse C., Capittelli M., Bacal M. et al. Chem. Phys. 1987. Vol. 117. P. 177
Горецкий В.П., Солошенко И.А., Тарасенко А.Ф. ЖТФ. 1989. Т. 59. Вып. 11. С. 201
Головинский П.М., Горецкий В.П., Рябцев А.В. и др. ЖТФ. 1991. Т. 61. Вып. 10. С. 46
Горецкий В.П., Рябцев А.В., Солошенко И.А. и др. ЖТФ. 1993. Т. 63. Вып. 9. С. 46
Hopkins M.B., Bacal M., Graham G. J. Appl. Phys. 1991. Vol. 70. P. 2009
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2019 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук