Неустойчивость реактивного распыления в магнетроне при получении пленок бинарных соединений
Владимиров В.В.1, Горшков В.Н.1, Мотрич В.А.1, Панченко О.А.1, Стеценко Б.В.1, Скрипник Е.Ф.1
1Институт физики Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 31 мая 1993 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1994 г.
Разработан метод расчета величины скорости откачки, при которой режим реактивного распыления устойчив. Значение критической скорости откачки определено в широком интервале изменения геометрических параметров системы и отношения коэффициентов распыления металла и бинарного соединения. На примере покрытий нитрида титана предложен способ определения приближенного аналитического выражения для критической скорости откачки. Показано, что с увеличением скорости откачки характерные времена развития процессов переключения возрастают. Проведенные опыты по исследованию динамики развития неустойчивости при напылении нитрида титана подтверждают ряд выводов теории.
- Westwood W.D. Physics in Thin Films / Ed. by M.H.Francombe, J.L.Vossen. Boston, 1989. P. 1--79
- Larsson T., Blom H.-O., Nender C., Berg S. J. Vac. Sci. Technol. 1988. Vol. A6 (3). P. 1832--1836
- Зайдель А.Н. Таблицы спектральных линий. М., 1969. 699 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
