Вышедшие номера
Неустойчивость реактивного распыления в магнетроне при получении пленок бинарных соединений
Владимиров В.В.1, Горшков В.Н.1, Мотрич В.А.1, Панченко О.А.1, Стеценко Б.В.1, Скрипник Е.Ф.1
1Институт физики Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 31 мая 1993 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1994 г.

Разработан метод расчета величины скорости откачки, при которой режим реактивного распыления устойчив. Значение критической скорости откачки определено в широком интервале изменения геометрических параметров системы и отношения коэффициентов распыления металла и бинарного соединения. На примере покрытий нитрида титана предложен способ определения приближенного аналитического выражения для критической скорости откачки. Показано, что с увеличением скорости откачки характерные времена развития процессов переключения возрастают. Проведенные опыты по исследованию динамики развития неустойчивости при напылении нитрида титана подтверждают ряд выводов теории.
  1. Westwood W.D. Physics in Thin Films / Ed. by M.H.Francombe, J.L.Vossen. Boston, 1989. P. 1--79
  2. Larsson T., Blom H.-O., Nender C., Berg S. J. Vac. Sci. Technol. 1988. Vol. A6 (3). P. 1832--1836
  3. Зайдель А.Н. Таблицы спектральных линий. М., 1969. 699 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.