Вышедшие номера
Исследование влияния на приповерхностную область GaAs нанесения пленок SiO 2, Si 3N 4 и малых доз gamma-излучения методом комбинационного рассеяния света
Васильковский С.А.1, Иванчо И.1
1Институт полупроводников Киев Институт физической электроники Словацкой АН, ЧСФР
Поступила в редакцию: 3 июня 1993 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1993 г.

Методом комбинационного рассеяния света исследовалась приповерхностная область GaAs, влияние на нее нанесения диэлектрических пленок (SiO2Si3N4) и gamma-излучения Co60. Нанесение на поверхность GaAs пленок диэлектриков приводит к уширению LO-фононного пика без значительного частотного сдвига. Облучение структур диэлектрик-GaAs gamma-квантами дозами 105 Р для SiO2 и 106 Р для Si3N4 приводит к сужению этих пиков, отсутствующему при других дозах облучения. Это объясняется радиационно-стимулированным упорядочением приповерхностного слоя GaAs. Рассмотрены возможные механизмы дефектообразования, приводящие к уширению LO-фононного пика при нанесении пленок SiO2 различными технологическими методами. В работе также исследовалось влияние времени травления in situ в плазме H2 на приповерхностную область GaAs при нанесении Si3N4 методом магнетронного распыления. Наблюдаемое сужение пика плазмон-LO-фононной моды при облучении gamma-квантами дозой 105 Р структуры n++-i-GaAs связывается с увеличением подвижности (на 20%) в n-слое. Из сравнительного анализа дозовых зависимостей полуширин LO-фононных пиков свободной поверхности GaAs и структур с диэлектриком делается вывод о возможности использования интерфейса диэлектрик-GaAs в качестве эффективного геттера дефектов приповерхностной области GaAs.