"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Роль аргона в газовой смеси с азотом при получении нитридных конденсатов системы Ti-Si-N в вакуумно-дуговых процессах осаждения
Белоус В.А., Заднепровский Ю.А., Ломино Н.С., Соболь О.В.1
1Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт", Харьков, Украина
Email: yaz@kipt.kharkov.ua
Поступила в редакцию: 15 июня 2012 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2013 г.

Вакуумно-дуговой процесс осаждения нитридных покрытий системы Ti-Si-N проведен в смеси газов с различными пропорциями использованных газовых компонент --- азота и аргона. Исследование получаемых покрытий проведено фрактографическими методами и методами структурного анализа (рентгеновская дифрактометрия и высокоразрешающая сканирующая электронная микроскопия). Также исследованы элементный состав и микротвердость этих конденсатов. При давлениях газовой смеси p>5·10-3 Тоrr найден режим наибольшей твердости покрытий и получена зависимость твердости от пропорции аргоновой компоненты в составе смеси. При содержании аргона на уровне 8-12% получены покрытия с твердостью около 50 GPа, что превышает в 1.7 раза твердость покрытий, полученных в среде азота. Такое сверхтвердое состояние определяется нанометровым (25-30 nm) размером кристаллитов нитрида и текстурой роста с семейством плоскостей 100, параллельной поверхности роста, что соответствует минимуму поверхностной энергии. Обсуждены возможные механизмы, способствующие повышению ионизации пленкообразующих частиц и активации химических реакций в присутствии аргона.
  • Braic M., Zoita C.N., Braic V., Kiss A., Popescu M., Musa G. // Vacuum. 1999. Vol. 53. P. 41--45
  • Gautier.-C., Machet.-J. // Thin. Sol. Films, 1997. Vol. 295. N 1--2. P. 43--52
  • Zhitomirsky V.N., Kinrot U., Alterkop B., Boxman R.L., Goldsmith S. // Surf. Coat. Technol. 1995. Vol. 86--87. P. 263--270.
  • Аксенов И.И., Антурьев Ю.П., Брень В.Г. и др. // Химия высоких энергий. 1986. T. 20. N 1. C. 82--86
  • Кунченко В.В., Аксенов И.И. // ВАНТ. Физика радиационных повреждений и радиационное материаловедение. 2000. N 4. С. 165--172
  • Азаренков Н.А., Соболь О.В., Погребняк А.Д., Береснев В.М. // Инженерия вакуумно-плазменных покрытий. Харьков: Изд-во ХНУ, 2011. 344 с
  • Aksenov I.I., Belous V.A., Zadneprovskiy Yu.A., Kuprin A.S., Lomino N.S., Ovcharenko V.D., Sobol O.V. // Proc. of the 24-=SUP=-th-=/SUP=- International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum. Germany. Braunschweig, 2010. P. 24--27
  • Аксенов И.И., Белоус В.А., Голтвяница С.К., Голтвяница В.С., Заднепровский Ю.А., Куприн А.С., Ломино Н.С., Соболь О.В. // ВАНТ. Физика радиационных повреждений и радиационное материаловедение. 2010. N 5. С. 119--125
  • Veprek S., Argon A.S., Zhang R.F. // Phil. Mag. Lett. 2007. Vol. 87. N 12. P. 955--966
  • Палатник Л.С., Фукс М.Я., Косевич В.М. Механизм образования и субструктура конденсированных пленок. М.: Наука. 1972. 320 с
  • Lomino N.S., Ovcharenko V.D., Andreev A.A. // IEEE T. Plasma Sci. 2005. Vol. 33. N 5. P. 1626--1630
  • Pelleg J., Zevin L.Z., Lungo S., Croitoru N. // Thin. Sol. Films. 1991. Vol. 197. P. 117--128
  • Головин Ю.И. Введение в нанотехнику. М.: Машиностроение, 2007. 496 с
  • Демиденко И.И., Ломино Н.С., Овчаренко В.Д., Падалка В.Г., Поляков Г.Н. // Химия высоких энергий. 1986. Т. 20. Вып. 6. С. 538--540
  • Ломино Н.С., Овчаренко В.Д., Полякова Г.Н., Андреев А.А., Шулаев И.М. // Сб. докладов 5-го Международного симпозиума "Вакуумные технологии и оборудование". Харьков, 2002. С. 202--222
  • Borst W.L., Chang S.L. // J. Chem. Phys. 1973. Vol. 59. N 11. P. 5830--5836
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.