Вышедшие номера
Кристаллизация beta-SiC в тонких слоях SiCx (x=0.03-1.4), синтезированных многократной имплантацией ионов углерода в кремний
Бейсенханов Н.Б.1
1Физико-технический институт, Алматы, Казахстан
Email: beisen@sci.kz
Поступила в редакцию: 18 мая 2010 г.
Выставление онлайн: 20 января 2011 г.

Методами оже-электронной спектроскопии, рентгеновской дифракции, инфракрасной спектроскопии и атомно-силовой микроскопии исследуются состав и структура однородных слоев SiC1.4, SiC0.95, SiC0.7, SiC0.4, SiC0.12 и SiC0.03, полученных многократной высокодозовой имплантацией ионов углерода с энергиями 40, 20, 10, 5 и 3 keV в кремний. Рассматривается влияние распада углеродных и углеродно-кремниевых кластеров на формирование тетраэдрических связей Si-C и процессы кристаллизации в слоях кремния с высокой и низкой концентрацией углерода.