Особенности процесса электроуправляемой релаксации при твист-деформации двухчастотного нематического жидкого кристалла
Васильев В.Н.1, Коншина Е.А.1, Федоров М.А.1, Амосова Л.П.1
1Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
Email: eakonshina@mail.ru
Поступила в редакцию: 11 декабря 2008 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2010 г.
Исследован процесс релаксации двухчастотного жидкого кристалла (ЖК) при твист-эффекте и влияние на него параметров внешних электрческих полей в случае большого начального угла наклона директора 44o. Обнаружено, что время релаксации под действием высокочастотного элекрического поля существенно увеличивает осцилляция, возникающая на заднем фронте электрооптического отклика модулятора. Установлено, что с уменьшением толщины слоя ЖК усиливается влияние электрического поля на время релаксации. Экспериментально показано влияние длительности промежуточного периода между моментами снятия низкочастотного напряжения и приложения к модулятору высокочастотного напряжения на время релаксации.
- Hyang,Y., Wen C.-H., Wu S.-T. // Appl. Phys. Lett. 2006. Vol. 89 (2). P. 021 103 (1--3)
- Коншина Е.А., Федоров М.А.. Амосова Л.П., Исаев М.В., Костомаров Д.С. // Оптич. журн. 2008. Т. 75. Вып. 10. С. 73--80
- Коншина Е.А., Рыбникова А.Е., Федоров М.А., Амосова Л.П., Иванова Н.Л., Исаев М.В., Костомаров Д.С. // ЖТФ. 2009. Т. 79. С. 111--116
- Wang H., Wu T.X., Xinyu Zhu X., Wu S.-T. // J. of Appl. Phys. 2004. Vol. 95. N 10. P. 5502--5507
- Kubono A., Kyukane Y., Akiyama R., Tanaka K. // J. of Appl. Phys. 2001. Vol. 90. N 12. P. 5859
- Golovin A.B., Shiyanovskii S.V., Lavrentovich O.D. // Appl. Phys. Lett. 2003. Vol. 83. P. 3864--3866
- Brimicombe P.D., Parry-Jones L.A., Elston S.J., Raynes E.P. // J. of Appl. Phys. 2005. Vol. 98. P. 104 104 (1--6)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
