ЖТФ, 2009, том 79, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Аналитическая модель образования и роста наночастиц в плазме SiH4-Ar

Б.Ф.Гордиец,1 Э.Бертран 2

1 Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН,
119991 Москва, Россия
e-mail: bgordiets@rambler.ru
2 Departamento de Fisica Aplicada i Optica,
08028 Barcelona, Spain

(Поступило в Редакцию 13 февраля 2008 г. В окончательной редакции 16 июня 2008 г.)

Представлена кинетическая модель образования и роста наночастиц в плазмохимическом реакторе низкого давления с радиочастотным емкостным разрядом в смеси SiH4-Ar. Получены аналитические формулы для расчета концентрации мономеров, концентрации и среднего размера наночастиц. Проведено сопоставление с численными расчетами и с экспериментальными данными для наночастиц в плазме SiH4-Ar.

PACS: 52.27.Lw

 PDF версия (210Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2009, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster