ЖТФ, 2008, том 78, выпуск 7

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Газодинамические эффекты при росте кристаллического нитрида галлия методом хлоридно-гидридной эпитаксии в вертикальном реакторе

А.В.Кондратьев,1 Д.С.Базаревский,1 А.С.Сегаль,1 С.А.Смирнов,2 Ю.Н.Макаров\kern2pt3

1 ООО \glqq Софт-Импакт\grqq, 2 ООО \glqq Галлий-Н\grqq, 3 ООО \glqq Нитридные кристаллы\grqq
194156, Санкт-Петербург, Россия
e-mail: ssmirnov@softimpact.ru

(Поступило в Редакцию 16 февраля 2007 г. В окончательной редакции 11 сентября 2007 г.)

Проведено численное моделироваие роста кристаллического нитрида галия методом хлоридно-гидридной парофазной эпитаксии в вертикальном реакторе. Проанализированы эффекты нарушения устойчивости газового потока и связанные с ними изменения характеристик роста кристаллов, происходящие при изменении расходов газовых компонентов и положения кристалла относительно источника галлия. Выявлено существенное влияние свободной концентрационной конвекции на распределение скорости роста кристалла по его поверхности.

PACS: 81.10.-h

 PDF версия (268Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2008, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster