ЖТФ, 2008, том 78, выпуск 3
ЖТФ, 2008, том 78, выпуск 3
| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Влияние электромагнитного облучения на фазовый состав кластеризованных пленок CN
З.А.Самойленко, Е.И.Пушенко, Н.Н.Ивахненко, В.Н.Варюхин, А.М.Прудников, Р.В.Шалаев
Донецкий физико-технический институт им. А.А. Галкина НАН Украины,
83114 Донецк, Украина
(Поступило в Редакцию 26 июня 2007 г.)
|
Методами рентгеноструктурного анализа и спектроскопии видимого диапазона исследовано влияние электромагнитного облучения белым и ультрафиолетовым (УФ) светом на фазовый состав аморфных пленок CN. Пленки имели разномасштабный атомный порядок в виде аморфных (30 Angstrem) кластеров графитовой фазы, кристаллических кластеров Angstrem графитовой, алмазной и карбонитридной фаз и межкластерной среды с ближним атомным порядком Angstrem. Показано, что облучение растущей поверхности пленок белым светом стимулирует рост мелких кластеров графитовой фазы. Облучение УФ светом подавляет развитие кластеров графитовой и карбонитридной фаз, стимулируя преимущественный рост (1.5%) алмазной фазы. Показано, что изменение мезоскопического фазового состава пленок CN вызывает изменение ширины запрещенной зоны для видимой области спектра от eV для пленок, облученных белым светом до eV при облучении слоев УФ-светом. PACS: 81.40.Tv, 78.67.-h, 42.70.Gi |
| PDF версия (252Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2008, Коллектив авторов Разработано... webmaster |