ЖТФ, 2007, том 77, выпуск 3

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Объемно-плазменная генерация ионов H- в низковольтном ксенон-водородном разряде. II

Ф.Г.Бакшт, В.Г.Иванов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН,
194021 Санкт-Петербург, Россия
e-mail: baksht@mail.ioffe.ru

(Поступило в Редакцию 1 июня 2006 г.)

Теоретически рассмотрен низкольтный ксенон-водородный разряд при различных токах эмиссии катода (js=2-20 A/cm2) и межэлектродном расстоянии L=1 cm. Проведена оптимизация основных параметров плазмы разряда, в частности полной концентрации водорода и ксенона в объеме, для достижения наибольшей концентрации отрицательных ионов водорода NH-(L) на прианодной границе плазмы. В оптимизированных режимах рассчитаны распределения всех параметров плазмы по длине газоразрядного промежутка. По данным расчетов, при умеренных плотностях тока эмиссии катода js~5-10 A/cm2 в оптимизированных режимах горения разряда концентрация отрицательных ионов водорода в прианодной области плазмы составляет NH-(L)~(1.5-2.5)·1012 cm-3. Полное давление плазмы при этом p0=0.5-0.6 Torr.

PACS: 52.80.-s

 PDF версия (186Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2007, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster