ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Поведение электронной плазмы в тонкой металлической пластине в переменном электрическом поле

С.В.Березкина, И.А.Кузнецова, А.А.Юшканов

Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова,
150000 Ярославль, Россия
e-mail: kuz@uniyar.ac.ru

(Поcтупило в Редакцию 23 августа 2005 г.)

В рамках кинетической теории исследован отклик электронной плазмы в тонком металлическом слое на внешнее поперечное к поверхности переменное электрическое поле. Рассчитана поглощаемая на единицу площади мощность излучения. Рассмотрены частоты электрического поля, малые по сравнению с плазменной частотой. Предполагается, что рассеяние электронов на поверхности металла носит чисто диффузный характер.

PACS: 71.10.-w, 52.20.-j

 PDF версия (162Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2006, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster