ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 8
ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 8
| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Особенности формирования пленок высшего силицида марганца на кремнии
Т.С.Камилов, Д.К.Кабилов, И.С.Самиев, Х.Х.Хуснутдинова, Р.А.Муминов, В.В.Клечковская
Ташкентский государственный авиационный институт,
700047 Ташкент, Узбекистан
Физико-технический институт Научно-производственное объединение \glqq ФизикаСолнце\grqq АН Узбекистана,
Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова РАН,
Москва, Россия
e-mail: tdai\_kts@mail.ru
(Поступило в Редакцию 18 января 2005 г.)
| Исследованы особенности формирования пленок высшего силицида марганца (ВСМ) на кремнии и их граница раздела. На основе анализа морфологии поверхности и тонкого переходного слоя на границе раздела ВСМSi предполагается, что рост пленок ВСМ методом реактивной диффузии Mn обусловлен механизмом паржидкостькристалл. |
| PDF версия (128Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2005, Коллектив авторов Разработано... webmaster |