ЖТФ, 2004, том 74, выпуск 9
ЖТФ, 2004, том 74, выпуск 9
| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Наноразмерная интерференционная литография с импульсным УФ лазером
В.И.Бредихин, В.Н.Буренина, Ю.К.Веревкин, А.В.Кирсанов, В.Н.Петряков,
Н.В.Востоков, В.Ф.Дряхлушин, А.Ю.Климов
Институт прикладной физики РАН,
603950 Нижний Новгород, Россия
e-mail: verevkin@appl.sci-nnov.ru
Институт физики микроструктур РАН,
603950 Нижний Новгород, Россия
(Поступило в Редакцию 21 июля 2003 г. В окончательной редакции 6 января 2004 г.)
| Измерены чувствительность и пространственное резрешение фототермического резиста на основе двухслойной пленки металлического индия и полимера. Прямым лазерным воздействием изготовлены двумерные маски, через которые созданы наноразмерные металлические и диэлектрические островки на подложке кремния. Найдены условия получения субмикронных периодических структур на пленках TiO, нанесенных на стеклянную подложку по золь-гель технологии. Измерены их некоторые оптические характеристики, отмечается возможность использования таких решеток для возбуждения планарных электромагнитных волн. |
| PDF версия (303Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2004, Коллектив авторов Разработано... webmaster |