Вышедшие номера
Вторично-ионный масс-спектрометр на базе высокодозного ионного имплантера
Батурин В.А.1, Еремин С.А.1, Пустовойтов С.А.1
1Институт прикладной физики НАН Украины, Сумы, Украина
Email: baturin@ipflab.sumy.ua
Поступила в редакцию: 27 июля 2006 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2007 г.

Для исследования процессов вторично-ионной эмиссии металлов в широком диапазоне энергий первичных ионов создан масс-спектрометр вторичных ионов на базе модернизированного высокодозного ионного имплантера. Имплантер позволяет генерировать пучки ионов с энергией до 150 keV и током на подложке до 30 muA. В качестве анализатора вторичных ионов использован модифицированный монопольный масс-спектрометр MX7304А. Возможен анализ ионов до массового числа 400 с разрешением 1 M на уровне 10% высоты пиков. Предел обнаружения по железу составляет 6.5 ppm. Анализатор снабжен малогабаритным энергофильтром, позволяющим сепарировать вторичные ионы по энергиям. Проведены исследования относительной интенсивности вторично-ионной эмиссии одноатомных и кластерных ионов меди при различных параметрах пучка первичных ионов. PACS: 82.80.Ms