Вышедшие номера
Термофотовольтаические преобразователи на основе соединений арсенида индия
Геворкян В.А., Арутюнян В.М., Гамбарян К.М., Аракелян А.О., Андреев И.А., Голубев Л.В., Яковлев Ю.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: igor@iropt9.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 8 февраля 2006 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2007 г.

Исследованы термофотовольтаические (ТФВ) преобразователи на основе многокомпонентных твердых растворов соединений A3B5 и их гетероструктур InAs/InAsSbP (Eg=0.35-0.6 eV) для температурного диапазона эмиттеров излучения 1000-2000oC. Применение узкозонных гетроструктур позволяет продлить чувствительность элементов в длинноволновую область и эффективно использовать тепловую энергию низкотемпературных источников. Представлены новые физические и технические подходы к разработке эпитаксиальной технологии получения четверных твердых растворов InAsSbP на основе InAs с низкой концентрацией носителей и к созданию гетероструктур с резкими границами. Преимущество систем на основе четверных твердых растворов InAsSbP - возможность выращивания более совершенных изопериодных с подложками структур, отсутствие напряжений на границе раздела, лучшие электрические и фотоэлектрические свойства (низкие темновые токи, высокий внешний квантовый выход), возможность гибкого управления шириной запрещенной зоны путем изменения состава твердого раствора. Показано, что пленки InAsPSb, полученные на подложке InAs методом жидкостной эпитаксии из переохлажденного раствора-расплава и методом электрожидкостной эпитаксии с подпиткой ростового раствора-расплава компонентами выращиваемого слоя, имеют однородный состав и высокое совершенство кристаллической структуры. ТФВ диодные гетероструктуры n-InAs/p-InAsPSb, полученные по данным технологиям, имеют значения обратных токов насыщения, близкие к теоретическим. Диодные структуры имеют широкую область спектральной чувствительности, что делает их весьма перспективными для ТФВ-элементов. PACS: 81.05.Hd