Вышедшие номера
Радиочастотные источники плазмы малой мощности для технологических приложений I. Источники плазмы в отсутствие магнитного поля
Вавилин К.В., Рухадзе А.А., Ри М.Х., Плаксин В.Ю.1
1Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 10 сентября 2003 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2004 г.

Развита общая аналитическая теория и проведено численное моделирование радиочастотных источников плазмы малой мощности с цилиндрической геометрией, работающих на промышленной частоте (f=13.56 MHz, omega=8.52·107 s-1). Рассмотрены чисто индуктивные поверхностные возбудители электромагнитных полей (антенны), расположенные либо на боковой поверхности цилиндра, либо на одной из торцевых его поверхностей. При этом другая торцевая поверхность цилиндра играет роль поверхности истечения плазмы из источника. Исследованы как длинные системы, в которых продольный размер цилиндра L превосходит его диаметр 2R, так и плоские дискообразные системы с L<2R. Найдены электромагнитные поля в плазме источника, возбуждаемые антенной, и вычислены эквивалентные сопротивления плазмы и выделяемая в плазме мощность радиочастотного поля.