Вышедшие номера
Создание эшелона мишеней лазерно-плазменной искры для источника ЭУФ излучения нанолитографа
ГК Росатом и Минобрнауки России , Новые атомные и энергетические технологии, FSEG-2025-0002
Черноизюмская Т.В. 1, Сергеев В.Ю. 1, Конторин В.В.1, Беляевский Д.Е.2, Буц М.К. 1, Капралов В.Г. 1, Карасев П.А. 1, Коробко Д.Д. 1, Царегородцев М.А.1, Шаров И.А. 1
1Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
2ООО ”ТехноСистемТрейд“
Email: t.chernoizyumskaya@spbstu.ru, V.Sergeev@spbstu.ru, vitaly.kontorin@mail.ru, belyaevskij@yandex.ru, misha.bucz@mail.ru, kapralov15@mail.ru, platon.karaseov@spbstu.ru, korobko.dd@spbstu.ru, caregorodcev.spbstu@mail.ru, I.Sharov@spbstu.ru
Поступила в редакцию: 9 августа 2025 г.
В окончательной редакции: 14 ноября 2025 г.
Принята к печати: 14 ноября 2025 г.
Выставление онлайн: 5 марта 2026 г.

Спроектирован, смонтирован и введен в эксплуатацию стенд, предназначенный для разработки технологии создания эшелона криогенных ксеноновых капель, которые предполагается использовать в качестве мишеней для лазерного импульса, создающего из них искру. Излучение лазерно-плазменной искры может быть использовано в качестве источника экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения для нанолитографа. Экспериментально наблюдался и зафиксирован с помощью скоростной видеосъемки процесс развития неустойчивости Плато-Рэлея в струе жидкого аргона. Параметры полученного эшелона капель аргона диаметром 0.2 mm с пространственным периодом 0.5 mm могут быть перспективны для источника ЭУФ в нанолитографии. Ключевые слова: лазерно-плазменная искра, эшелон аргоновых капель, неустойчивость Плато-Рэлея, нанолитография, источник ЭУФ.
  1. V. Bakshi (ed.). EUV sources for lithography (SPIE PRESS, 2006)
  2. H. Meiling, E. Boon, N. Buzing, K. Cummings, O. Frijns, J. Galloway, M. Goethals, N. Harned, B. Hultermans, R. de Jonge, B. Kessels, P. Kurz, S. Lok, M. Lowisch, J. Mallman, B. Pierson, K. Ronse, J. Ryan, E. Smitt-Weaver, M. Tittnich, C. Wagner, A. van Dijk, J. Zimmermann. Emerging Lithographic Technologies XII. SPIE, 6921, 171 (2008)
  3. B.A.M. Hansson, H.M. Hertz. J. Phys. D: Appl. Phys., 37, 3233 (2004). DOI: 10.1088/0022 3727/37/23/004
  4. M.V. Svechnikov, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, D.A. Tatarskiy, N.N. Salashchenko, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, Y.A. Vainer, M.V. Zorina. Opt. Express, 26, 33718 (2018). DOI: 10.1364/OE.26.033718
  5. H. Fiedorowicz, A. Bartnik, R. Jarocki, R. Rakowski, M. Szczurek. Appl. Phys. B, 70 (2), 305 (2000)
  6. N.I. Chkhalo, S.A. Garakhin, A.Ya. Lopatin, A.N. Nechay, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, N.N. Tsybin, S.Tu. Zuev. AIP Advances, 8 (10), 105003 (2018). DOI: 10.1063/1.5048288
  7. S.G. Kalmykov, P.S. Butorin, M.E. Sasin. J. Appl. Phys., 126, 103301 (2019). DOI: 10.1063/1.5115785
  8. В.Е. Гусева, А.Н. Нечай, А.А. Перекалов, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало. ЖТФ, 92 (8), 1185 (2022). DOI: 10.21883/JTF.2022.08.52781.72-22
  9. V.E. Guseva, M.S. Mikhailenko, A.N. Nechai, A.A. Perekalov, N.N. Salashchenko, N. Chkhalo. Instrum. Experiment. Techniq., 67, 67 (2024). DOI: 10.1134/S002044122470012X
  10. М.П. Малков (ред.). Справочник по физико-техническим основам криогеники (Энергоатомиздат, М., 1985)
  11. В.Г. Левич. Физико-химическая гидродинамика (Физматлит, М., 1959)
  12. Л. Прандтль. Гидроаэромеханика. [пер. со второго немецкого издания Г.А. Вольперта] (РХД, М., Ижевск, 2002)
  13. K.V. Sharp, R. Adrian, J.G. Santiago, J.I. Molho. Liquid flows in microchannels (CRC Press, 2005)
  14. A.V. Boukharov, M. Buscher, A.S. Gerasimov, V.D. Chernetsky, P.V. Fedorets, I.N. Maryshev, A.A. Semenov, A.F. Ginevskii. Phys. Rev. Lett., 100, 174505 (2008). DOI: 10.1103/PhysRevLett.100.174505
  15. B.A.M. Hansson, M. Berglund, O. Hemberg, H.M. Hertz. J. Appl. Phys., 95, 4432 (2004). DOI: 10.1063/1.1687037
  16. I. Fomenkov, D. Brandt, A. Ershov. Adv. Opt. Technol., 6, 173 (2017). DOI: 10.1515/aot 2017-0029
  17. R.A. Costa Fraga, A. Kalinin, M. Kuhnel, D.C. Hochhaus, A. Schottelius, J. Polz, M.C. Kaluza, P. Neumayer, R.E. Grisenti. Rev. Sci. Instrum., 83 (2), 025102 (2012). DOI: 10.1063/1.3681940
  18. В.Ю. Сергеев, П.А. Карасев, Т.В. Черноизюмская, Д.Д. Коробко. Устройство для управляемого формирования и подачи эшелона ксеноновых мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения (Патент РФ N 224312, Изобретения. Полезные модели. Бюл. N9, 2024)