Изучена возможность использования лабораторных методов рефлектометрии для измерения оптических констант материалов в экстремальном ультрафиолетовом (ЭУФ) диапазоне. Анализ проведен на основе соединений тантала, являющегося поглотителем в заготовках для масок. Численно смоделирован эксперимент по измерению коэффициента отражения в зависимости от длины волны и угла падения для слоев поглотителя литографической маски. В рамках модели учтены реальные характеристики лабораторных приборов, а также погрешности измерения. Численный эксперимент показал перспективность применения лабораторной рефлектометрии к определению параметров тонких пленок на подложках, а эксперимент подтверждает применимость метода для решения реальных задач. Такие параметры структуры, как плотности, шероховатости и толщины восстанавливаются с высокой степенью точности. Отклонения полученных во всех реализациях значений от модельных значительно меньше 1 %, эксперимент показал хорошую точность по восстановлению оптических констант. Ключевые слова: тонкие пленки, рефлектометрия, оптические константы, тантал, поглощение, дифрактометр, рефлектометр, коэффициент отражения, рентгеновское излучение, рентгеновская литография.