Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Влияние способа подачи газов в камеру на процессы реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени
1Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск, Беларусь 
2Ведущая лаборатория провинции Шэньси в области технологии тонких пленок и оптических исследований, Школа оптоэлектронного инжиниринга, Сианьский политехнический университет, Сиань, Китай
2Ведущая лаборатория провинции Шэньси в области технологии тонких пленок и оптических исследований, Школа оптоэлектронного инжиниринга, Сианьский политехнический университет, Сиань, Китай
Поступила в редакцию: 30 ноября 2022 г.
В окончательной редакции: 16 января 2023 г.
Принята к печати: 22 января 2023 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2023 г.
Представлены результаты исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени в Ar/O2 смеси газов при различных способах подачи газов в камеру. Установлено, что независимо от способа подачи газов при изменении концентрации кислорода в Ar/O2 смеси газов происходит изменение соотношения содержания Al и Ti в нанесенных пленках Ti1-xAlxOy. На основе исследований диэлектрических характеристик нанесенных пленок Ti1-xAlxOy установлено, что при раздельной газоподаче (Ar подается в область мишени, O2 подается в область подложки) в отличие от совместной газоподачи (смесь Ar/O2 рабочих газов подается в область мишени) возможно нанесение диэлектрических пленок в переходном режиме при сравнительно высоких скоростях распыления. При этом подача кислорода в область подложки позволяет увеличить содержание кислорода в пленках до 60-64 at.%. Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, составная мишень, тонкие пленки, оксид титана-алюминия, элементный состав, диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь.
- M. Coll, J. Fontcuberta, M. Althammer, M. Bibes, H. Boschker, A. Calleja, G. Cheng, M. Cuoco, R. Dittmann, B. Dkhil, I.E. Baggari, M. Fanciulli, I. Fina, E. Fortunato, C. Frontera, S. Fujita, V. Garcia, S. Goennenwein, C.-G. Granqvist, J. Grollier, R. Gross, A. Hagfeldt, G. Herranz, K. Hono, E. Houwman, M. Huijben, A. Kalaboukhov, D. Keeble, G. Koster, L. Kourkoutis, J. Levy, M. Lira-Cantu, J. MacManus-Driscoll, J. Mannhart, R. Martins, S. Menzel, T. Mikolajick, M. Napari, M. Nguyen, G. Niklasson, C. Paillard, S. Panigrahi, G. Rijnders, F. Sanchez, P. Sanchis, S. Sanna, D. Schlom, U. Schroeder, K. Shen, A. Siemon, M. Spreitzer, H. Sukegawa, R. Tamayo, J. van den Brink, N. Pryds, F.M. Granozio. Appl. Surf. Sci., 482, 1 (2019). DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.03.312
- K.V. Madhuri. Ad. Res. Engineer. Sc. "ARES" J., 2 (3), 2 (2014)
- J. Robertson, R.M. Wallace. Mater. Sci. Engineering R., 88, 1 (2015). DOI: 10.1016/j.mser.2014.11.001
- B. Wang, W. Huang, L. Chi, M. Al-Hashimi, T.J. Marks, A. Facchetti. Chem. Rev., 118, 5690 (2018)
- E. Fortunato, P. Barquinha, R. Martins. Adv. Mater., 24, 2945 (2012)
- S.R. Thomas, P. Pattanasattayavong, T.D. Anthopoulos. Chem. Soc. Rev., 42, 6910 (2013)
- J. Nakano, H. Miyazaki, T. Kimura, T. Goto, S. Zhang. J. Ceram. Soc. Jpn., 112 (5), S908 (2004)
- S. Kadlec, J. Musil, H. Вyskocil. J. Phys. D: Appl. Phys., 19 (9), L187 (1986). DOI: 10.1088/0022-3727/19/9/004
- Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман. Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением (Техносфера, М., 2014)
- W.D. Sproul, D.J. Christie, D.C. Carter. Thin Solid Films, 491 (1-2), 1 (2005). DOI: 10.1016/j.tsf.2005.05.022
- А.П. Достанко, Д.А. Голосов, С.М. Завадский, С.Н. Мельников, Д.Э. Окоджи, Д.Д. Котинго, Г.М. Рубан. ПФМТ, 27 (2), 12 (2016)
- Д.А. Голосов, С.Н. Мельников, А.П. Достанко. Электронная обработка материалов, 48 (1), 63 (2012). [D.A. Golosov, S.N. Melnikov, A.P. Dostanko. Surf. Engineer. Appl. Electrochem., 48 (1), 52 (2012). DOI: 10.3103/S1068375512010073]
- D.R. Lide. Handbook of Сhemistry and Рhysics (London; Teylor \& Francis, 2006)
- C.C. Chen. Atlas J. Mater. Sci., 1 (1), 1 (2014). DOI: 10.5147/ajms.v1i1.116
- J.A. Dean, N.A. Lange. Lange's Handbook of Chemistry (McGraw-Hill Education, NY., 2005)
- Х.Т. Доан, Д.А. Голосов, Дж. Джанг, С.Н. Мельников, С.М. Завадский. Электронная обработка материалов, 59 (1) (2023). [H.T. Doan, D.A. Golosov, J. Zhang, S.N. Melnikov, S.M. Zavadski. Surf. Engineer. Appl. Electrochem., 59 (1) (2023).]
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
