Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Формирование неоднородных оксидных и субоксидных слоев на ультратонкой металлической пленке при многократном окислении и ионном распылении
Переводная версия: 10.21883/TP.2022.08.54561.68-22 
Лубенченко А.В.
1, Иванов Д.А.1, Лубенченко О.И.1, Паволоцкий А.Б.2, Лукьянцев Д.С.1, Ячук В.А.1, Павлов О.Н.1
1НИУ Московский энергетический институт, Москва, Россия 
2Chalmers University of Technology, Goteborg, Sweden
2Chalmers University of Technology, Goteborg, Sweden
Email: lubenchenkoav@mpei.ru
Поступила в редакцию: 30 марта 2022 г.
В окончательной редакции: 30 марта 2022 г.
Принята к печати: 30 марта 2022 г.
Выставление онлайн: 12 июня 2022 г.
Представлена технология контролируемого формирования многослойных оксидных и субоксидных слоев на тонкой металлической пленке. Продемонстрирована возможность контролируемого создания пленок с ультратонким субоксидным слоем внутри слоя высшего оксида и пленок, представляющих собой периодическую структуру с чередованием оксидных слоев с разной степенью окисления. Получена структура с чередованием ультратонких слоев из высшего оксида и субоксидных слоев на ниобиевой пленке. Ключевые слова: металл-оксидные пленки, контролируемое формирование пленок, послойный химический и фазовый анализ, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.
- L. Chua. IEEE Tr. Circuit Theor., 18, 507--519 (1971)
- А.Н. Белов, А.А. Перевалов, В.И. Шевяков. Изв. вузов. Физика и технология, 22, 42017305 (2017)
- A. Belov, D. Korolev, I. Antonov, V. Kotomina, A. Kotina, E. Gryaznov, A. Sharapov, M. Koryazhkina, R. Kryukov, S. Zubkov, A. Sushkov, D. Pavlov, S. Tikhov, O. Morozov, D. Tetelbaum. Adv. Mater. Technol., 5, 1900607 (2020). DOI: 10.1002/admt.201900607
- А. Гудков, А. Гогин, М. Кик, А. Козлов, А. Самусь. Электроника: Наука, технология, бизнес, 156--162 (2014)
- S.K. Nath, S.K. Nandi, S. Li, R.G. Elliman. Nanotechnology, 31, 235701 (2020)
- M. Gul, H. Efeoglu. J. Mater. Sci. Mater. El., 33, 7423--7434 (2022). DOI: 10.1007/s10854-022-07864-z
- W.D. Songa, J.F. Yinga, W. He, V.Y.-Q. Zhuo, R. Ji, H.Q. Xie, S.K. Ng, Serene L.G. Ng, Y. Jiang. Appl. Phys. Lett., 106, 031602 (2015). doi.org/10.1063/1.4906395
- A.V. Lubenchenko, A.A. Batrakov, I.V. Shurkaeva, A.B. Pavolotsky, S. Krause, D.A. Ivanov, O.I. Lubenchenko. J. Surf. Invest. X-Ray, 12, 692--700 (2018)
- A.V. Lubenchenko, A.A. Batrakov, A.B. Pavolotsky, O.I. Lubenchenko, D.A. Ivanov. Appl. Surf. Sci., 427, 711--721 (2018)
- J.J. Yeh, I. Lindau. Atom. Data Nucl. Data, 32, 1 (1985)
- S. Tanuma, C.J. Powell, D.R. Penn. Surf. Interface Anal., 21.3, 165 (1994)
- J.P. Biersack, L.G. Haggmark. Nucl. Instrum. Meth., 174, 257--269 (1980)
- S. Doniach, M. Sunjic. J. Phys. C Solid State., 3.2, 285 (1970)
- J.F. Moulder, W.F. Stickle, P.E. Sobol, K.D. Bomben. Handbook of X Ray Photoelectron Spectroscopy: A Reference Book of Standard Spectra for Identification and Interpretation of XPS Data (Physical Electronics, 1979)
- A.V. Naumkin, A. Kraut-Vass, C.J. Powell. NIST X-ray photoelectron spectroscopy database (2008)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
