Вышедшие номера
Исследование углеводородной пленки, формирующейся на поверхности полупроводника под действием электронного пучка
Местер А.Ю.1, Трофимов А.Н.1, Заморянская М.В.1, Дьяконов А.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: mesteralex@mail.ru
Поступила в редакцию: 27 декабря 2013 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2014 г.

Проведены исследования скорости формирования углеводородной пленки на поверхности образцов под действием электронного пучка. Исследования проводились при комнатной температуре и при охлаждении образца до температуры жидкого азота. Проводились измерения толщины и пропускание оптического излучения пленок в зависимости от времени облучения образца электронным пучком, температуры образца и уровня вакуума. Измерение толщины образовавшихся пленок проводилось методом атомно-силовой микроскопии. Поглощение пленок определялось на основании сравнения интенсивности катодолюминесценции, полученной с "чистой" поверхности образца и с поверхности, на которой образовалась пленка. Проведенные измерения позволили оценить скорость образования пленки в зависимости от температуры образца и уровня вакуума и поглощение оптического излучения для длин волн 300, 360, 550 и 665 nm.