Вышедшие номера
Излучение объемного разряда в элегазе, инициируемого прилипательной неустойчивостью плазмы
Шуаибов А.К.1, Шевера И.В.1
1Ужгородский национальный университет, Ужгород, Украина
Email: ishev@univ.uzhgorod.ua
Поступила в редакцию: 9 апреля 2002 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2002 г.

Представлены результаты исследования оптических характеристик плазмы объемного разряда низкой плотности в SF6. Разряд формировался в системе электродов "сферический анод-плоский катод" за счет развития прилипательной неустойчивости. Установлено, что при подаче на анод постоянного напряжения (Uch=<1.3 kV) в разрядном промежутке, не ограниченном диэлектрическими стенками, зажигается импульсно-периодический разряд (f=0.1-120 kHz). Исследовались пространственные, частотные и вольт-амперные характеристики объемного разряда, излучение плазмы в спектральной области 200-700 nm, а также осциллограммы напряжения, тока и излучения плазмы. Показано, что исследуемая плазма существует в форме домена (автосолитона), а объемный разряд является самоинициирующимся, так как в нем роль коммутатора при работе в импульсно-периодическом режиме выполняет сама плазма, находящаяся в режиме прилипательной неустойчивости. Полученные результаты представляют интерес для применения в физике и технике электроразрядных химических HF(DF) лазеров на нецепных реакциях, а также при разработке широкоапертурной импульсно-периодической лампы низкого давления на фторидах Ar, Kr и Xe с малоагрессивной рабочей средой (смеси атомов Ar, Kr, Xe с молекулами SF6 при низком давлении).