Вышедшие номера
Механизм нанооксидирования n-In0.53Ga0.47As с помощью атомно-силового микроскопа
Соколов Д.В.
Поступила в редакцию: 24 января 2001 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2001 г.

Показана окисная природа образования линий при АСМ модификации слоя InGaAs на InP с согласованным параметром решетки. Рассмотрены различные модели механизма АСМ нанооксидирования InGaAs. Традиционная модель Кабрера-Мотта с наведенным пространственным зарядом внутри оксида предложена в качестве базовой модели АСМ нанооксидирования.