Работа посвящена изучению влияния неоднородного плазменного слоя, возникающего при контакте антенны с плазмой, на характеристики кольцевой апертурной антенны. Показано, что слой плазмы с нарастающей концентрацией электронов у поверхности антенны приводит к аномально высокому поглощению СВЧ мощности в области закритических концентраций. Наличие у поверхности антенны ионного слоя приводит к изменению знака реактивности импеданса антенны в точке последовательного резонанса. Учет этих явлений необходим при использовании кольцевой апертурной антенны в качестве СВЧ зонда для диагностики плазмы.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.