Изучены особенности поверхностного наноструктурирования субмонослойных углеродных покрытий, осажденных на пластины кремния с кристаллографическими ориентациями (111) и (100) в высокоионизованной сверхвысокочастотной плазме низкого давления. Показано влияние толщины покрытий и основных параметров режимов обработки на механизмы морфологических изменений с учетом реконструкции поверхности монокристаллическом кремнии и механических напряжений, возникающих при получении атомно-чистой поверхности в процессе плазмохимического травления, гетерогенной конденсации и высокотемпературном отжиге. С использованием наноструктурированных углеродных образований в качестве масочных покрытий и высокоанизотропного плазмохимического травления на монокристаллическом кремнии ориентации (100) получены интегральные столбчатые наносистемы с плотностью до (4-5)· 10⁹ cm^-2 и высотой свыше 400 nm.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.