Вышедшие номера
Влияние имплантации ионов Cr+ и импульсного ионного отжига на формирование и оптические свойства гетероструктур Si/CrSi2/Si(111)
Галкин Н.Г., Горошко Д.Л., Галкин К.Н., Ваванова С.В., Петрушкин И.А., Маслов А.М., Баталов Р.И., Баязитов Р.М., Шустов В.А.1
1Казанский физико-технический институт КазНЦ РАН, Казань, Россия
Email: ngalk@iacp.dvo.ru
Поступила в редакцию: 3 сентября 2009 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2010 г.

Впервые исследовано влияние импульсного ионного отжига (ИИО) на морфологию, структуру и фазовый состав поверхности образцов монокристаллического Si(111), которые были имплантированы ионами хрома (Cr+) с дозами от 6·1015 до 6·1016 cm-2, и на последующий рост кремния. Показано, что ИИО приводит к перераспределению атомов хрома в приповерхностной области кремния и к синтезу поликристаллических преципитатов дисилицида хрома (CrSi2). Установлено, что сверхвысоковакуумная (СВВ) очистка при температуре 850oC образцов кремния после имплантации и ИИО приводит к формированию атомарночистой поверхности с развитым рельефом. Рост кремния методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) приводит к эпитаксиальному ориентированию трехмерных островков кремния и постепенному их срастанию при толщине слоя около 100 nm и дозах имплантации до 1016 cm-2. Повышение дозы имплантации приводит к росту поликристаллического кремния. По данным спектроскопии комбинационного рассеяния света (КРС) и оптической отражательной спектроскопии, внутри кремния формируются преципитаты полупроводникового CrSi2, которые диффузионно перемещаются в слой кремния в процессе его роста.