Вышедшие номера
Сложное поведение кристаллизации и рост ориентированных слоев аморфных нанопленок MoTe2 на подложках из переходных металлов
РНФ, 22-19-00766
Якушев П.Н. 1, Берштейн В.А.1, Колобов А.В.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2РГПУ им. А.И. Герцена, Санкт Петербург, Россия
Email: yak@pav.ioffe.ru, vbersht.polmater@mail.ioffe.ru, akolobov@herzen.spb.ru
Поступила в редакцию: 30 апреля 2024 г.
В окончательной редакции: 28 октября 2024 г.
Принята к печати: 30 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 19 января 2025 г.

Дихалькогениды переходных металлов нашли широкое применение в различных областях электроники (спинтроника, оптоэлектроника, устройства памяти) в качестве двумерных полупроводников в виде тонких кристаллических пленок. Одним из методов их получения является кристаллизация в твердом состоянии из аморфной фазы на различных подложках. В данной работе измерения дифференциальной сканирующей калориметрии показали, что нанослои MoTe2, осажденные на различные подложки (Ta, Al, W, Mo), находятся в различных структурных состояниях: аморфном, частично кристаллическом или полностью кристаллическом. Было обнаружено, что температуры стеклования, диапазоны кристаллизации и энтальпии различаются в зависимости от подложки. Это означает, что какова бы ни была причина наблюдаемых различий, результаты, полученные на одной подложке, не могут быть использованы при изменении материала подложки. Ключевые слова: TDMCs (Монослои дихалькогенидов переходных металлов, ДПМ), кристаллизация, DSC (ДСК, дифференциальная сканирующая калориметрия).
  1. A.V. Kolobov, J. Tominaga. Two-dimensional transition-metal dichalcogenides (Springer, Switzerland, 2016), p. 537
  2. K.F. Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan, T.F. Heinz. Phys. Rev. Lett. 105, 136805 (2010)
  3. E. Jung, J.C. Park, Y.S. Seo, J.H. Kim, J. Hwang, Y.H. Lee. Sci Rep. 12, 4543 (2022)
  4. A.F. Morpurgo. Nature Phys. 9, 532 (2013)
  5. K.H. He, Y.B. Jiang, J. Yu, Z.Y. Yang, C.F. Li, T.Z. Wang, D.Q. Dong, F.W. Zhuge, M. Xu, Z.Y. Hu, R. Yang, X.S. Miao. Mater. Horizons 9, 1036 (2022)
  6. M.Y. Zhang, Z.X. Wang, Y.N. Li, L.Y. Shi, D. Wu, T. Lin, S.J. Zhang, Y.Q. Liu, Q.M. Liu, J. Wang, T. Dong, N.L. Wang. Phys. Rev. X 9, 021036 (2019)
  7. T. Fukuda, R. Kaburauchi, Y. Saito, K. Makino, P. Fons, K. Ueno, M. Hase. Phys. Stat. Sol. --- RRL 16, 2100663 (2022)
  8. Y. Saito, Y.P. Fons, A.V. Kolobov, J. Tominaga. Phys. Stat. Sol. (b) 252, 2151-2158 (2015)