Сложное поведение кристаллизации и рост ориентированных слоев аморфных нанопленок MoTe2 на подложках из переходных металлов
Якушев П.Н.
1, Берштейн В.А.1, Колобов А.В.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2РГПУ им. А.И. Герцена, Санкт Петербург, Россия
Email: yak@pav.ioffe.ru, vbersht.polmater@mail.ioffe.ru, akolobov@herzen.spb.ru
Поступила в редакцию: 30 апреля 2024 г.
В окончательной редакции: 28 октября 2024 г.
Принята к печати: 30 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 19 января 2025 г.
Дихалькогениды переходных металлов нашли широкое применение в различных областях электроники (спинтроника, оптоэлектроника, устройства памяти) в качестве двумерных полупроводников в виде тонких кристаллических пленок. Одним из методов их получения является кристаллизация в твердом состоянии из аморфной фазы на различных подложках. В данной работе измерения дифференциальной сканирующей калориметрии показали, что нанослои MoTe2, осажденные на различные подложки (Ta, Al, W, Mo), находятся в различных структурных состояниях: аморфном, частично кристаллическом или полностью кристаллическом. Было обнаружено, что температуры стеклования, диапазоны кристаллизации и энтальпии различаются в зависимости от подложки. Это означает, что какова бы ни была причина наблюдаемых различий, результаты, полученные на одной подложке, не могут быть использованы при изменении материала подложки. Ключевые слова: TDMCs (Монослои дихалькогенидов переходных металлов, ДПМ), кристаллизация, DSC (ДСК, дифференциальная сканирующая калориметрия).
- A.V. Kolobov, J. Tominaga. Two-dimensional transition-metal dichalcogenides (Springer, Switzerland, 2016), p. 537
- K.F. Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan, T.F. Heinz. Phys. Rev. Lett. 105, 136805 (2010)
- E. Jung, J.C. Park, Y.S. Seo, J.H. Kim, J. Hwang, Y.H. Lee. Sci Rep. 12, 4543 (2022)
- A.F. Morpurgo. Nature Phys. 9, 532 (2013)
- K.H. He, Y.B. Jiang, J. Yu, Z.Y. Yang, C.F. Li, T.Z. Wang, D.Q. Dong, F.W. Zhuge, M. Xu, Z.Y. Hu, R. Yang, X.S. Miao. Mater. Horizons 9, 1036 (2022)
- M.Y. Zhang, Z.X. Wang, Y.N. Li, L.Y. Shi, D. Wu, T. Lin, S.J. Zhang, Y.Q. Liu, Q.M. Liu, J. Wang, T. Dong, N.L. Wang. Phys. Rev. X 9, 021036 (2019)
- T. Fukuda, R. Kaburauchi, Y. Saito, K. Makino, P. Fons, K. Ueno, M. Hase. Phys. Stat. Sol. --- RRL 16, 2100663 (2022)
- Y. Saito, Y.P. Fons, A.V. Kolobov, J. Tominaga. Phys. Stat. Sol. (b) 252, 2151-2158 (2015)