Показано, что особенности образования и структура стационарного заряженного слоя на границе между симметричной плазмой и стенкой существенно зависят от отношений tau_± (для обеих компонент плазмы) тепловой скорости к скорости потока плазмы в начале слоя, а также от знака и величины электростатического потенциала стенки varphi_W. Полученный критерий существования слоя зависит от tau_± и не зависит от знака varphi_W. Сформулированы условия, при которых в пристеночной области симметричной плазмы может формироваться структура типа "двойной слой". Двойной заряженный слой содержит два подслоя с различными знаками заряда при фиксированной полярности стенки. При этом подслой, примыкающий к плазме, имеет знак заряда, противоположный полярности стенки, в то время как подслой, примыкающий к стенке, имеет знак заряда, совпадающий с ее полярностью. Определены области значений параметров симметричной плазмы, при которых двойной слой существует. Найдено, что подобная структура может формироваться не при всех значениях параметров плазмы, при которых заряженный слой существует, и на возможность его формирования влияют как tau_±, так и знак потенциала стенки. PACS: 52.40.Kh, 52.30.Ex, 52.40.Hf

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.