Вышедшие номера
Влияние температуры роста спейсерного слоя на электрофизические и структурные свойства PHEMT-структур
Галиев Г.Б., Васильевский И.С., Климов Е.А., Мокеров В.Г., Черечукин А.А., Имамов Р.М., Субботин И.А., Пашаев Э.М.1
1Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 30 мая 2006 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2007 г.

Изучено влияние температуры роста спейсерного слоя AlGaAs на подвижность двумерного электронного газа mue в псевдоморфных структурах AlGaAs/InGaAs/GaAs с односторонним слоем, delta-легированным кремнием. Для исследования выбраны структуры, оптимизированные с точки зрения отсутствия параллельной проводимости по легированному слою. Установлено, что в таких структурах с увеличением температуры роста спейсерного слоя от 590 до 610oC при неизменности остальных параметров и условий роста подвижность mue увеличивается на 53% при T=300 K и на 69 при 77. С помощью фотолюминесцентных и рентгенодифракционных измерений показано, что это связано с усовершенствованием кристаллической структуры спейсерного слоя AlGaAs и уменьшением степени размытия гетерограницы AlGaAs/InGaAs. PACS: 81.15.Hi, 72.80.Ey, 73.61.Ey, 61.10.Nz