Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
О возможности применения киноформных элементов в зеркальных проекционных системах для ВУФ-литографии
1Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова, Санкт-Петербург, Россия 
Email: venediktov@pochta.ru
Поступила в редакцию: 30 мая 2006 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2006 г.
Проанализированы возможности технологии отражательных дифракционных (голографических) оптических элементов для ВУФ-диапазона и их применения в проекционной фотолитографии. PACS: 85.85.+j
- Денисюк Ю.Н., Соскин С.И. // Опт. и спектр. 1971. Т. 31. Вып. 6. С. 991
- Беренберг В.А., Васильев М.В., Венедиктов В.Ю. и др. // Опт. журн. 1998. Т. 65. Вып. 12. С. 70
- Naulleau P.P. Method of fabricating reflection-mode EUV diffraction elements. USA Patent 6,392,792, 2002
- Sweatt W.C., Ray-Chaudhuri A.K. Diffractive element in extreme-UV lithography condenser. USA Patent 6, 118,577, 2000
- Singh M., Braat J.J.M. Lithographic apparatus, device manufacturing methods, devices manufactured thereby, method of manufacturing a reflector, reflector manufactured thereby and phase shift mask. US Patent 6,777,140
- Voznesensky N.B., Zhevlakov A.P. // Proc. SPIE. 2004. Vol. 5482. P. 136--144
- Gan M.A., Zhdanov D.D., Novoselsky V. et al. // Opt. Eng. 1992. Vol. 31. P. 696
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
