Измерения толщины нанометровых слоев металла и электропроводности полупроводника в структурах металл--полупроводник по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения
Усанов Д.А.1, Скрипаль А.В.1, Абрамов А.В.1, Боголюбов А.С.1
1Саратовский национальный исследовательский государственный университет им. Н.Г. Чернышевского, Саратов, Россия
Email: usanovda@info.sgu.ru
Поступила в редакцию: 25 июля 2005 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2006 г.
Теоретически и экспериментально исследованы особенности взаимодействия электромагнитного излучения с нанометровыми структурами металл-полупроводник. Предложена и экспериментально реализована методика неразрушающего многопараметрового контроля электрофизических параметров нанометровых слоев металла и электропроводности полупроводника в структурах металл-полупроводник по спектрам отражения и прохождения электромагнитной волны. PACS: 81.07.-b
- Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. 720 с
- Бетфессель С. Тонкие пленки, их изготовление и измерение. М.--Л.: Госэнергоиздат, 1963. 272 с
- Усанов Д.А., Скрипаль А.В. // ЖТФ. 1994. Т. 64. Вып. 5. С. 72--77
- Чаплыгин Ю.А., Усанов Д.А., Скрипаль А.В. и др. // Изв. вузов. Электроника. 2005. N 1. С. 68--77
- Бреховских Л.М. Волны в слоистых средах. М.: Наука, 1973. 343 с
- Усанов Д.А. СВЧ методы измерения параметров полупроводников. Саратов: Изд-во Сарат. ун-та, 1985. 55 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
